半導体製造の工程では、波長が短い紫外線などの光を用い、細かいパターンをウエハの回路に焼き付けます。装置内の光学機器はウエハの位置を測るセンサーと回路パターンを焼き付ける露光装置に搭載されており、装置内で、光の透過率を良好なままフォトマスク、コンデンサレンズに投影するように反射防止膜を施します。
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